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1分钟前 清浦计算机壳曝光显影加工生产商诚信企业「在线咨询」[利成感光38dbdb8]内容：当照相底片上的大光密度小于2.8时，紫外光可透过底片上的不透明区，使不透明区下面的干膜局部发生聚合；当底片上的光密底大于o.2时，紫外光难于穿过底片透明区，延长了曝光时间。为此建议底片上大光密度大于4，光密度小于o.2。显影时，通过感光鼓和显影辊之间的电场作用，碳粉被吸到感光鼓曝光区域。其中曝光部位电位低于显影辊表面电位低于感光鼓未曝光部位电位。多用在数码复合机与激光打印机中。

曝光不足，导致单体聚合不，那么在显影过程中，会使的胶膜变软，线条不清晰，色泽暗淡，脱胶。曝光过度，会造成难显影，留有残胶。同时曝光影响图案的线宽，过量曝光会使图形线条变细，蚀刻产品线条变粗。感光(曝光)完成后就要进行下一步工作——显影。显影的目的是通过显影将未曝光的地方冲走，经过曝光的地方固化，这样就能确定需要被腐蚀和不被腐蚀的图案。以便后续蚀刻加工的精度。

曝光显影是一种摄影技术中常用的过程，通常用于将摄影底片或者电子传感器中记录的光影信息转化为可见影像的过程。曝光是将光照射在底片或传感器上的过程，而显影则是将暴露的底片或传感器做出可见影像的过程。这个过程在摄影，印刷和微电子制造等很多领域中都有应用。曝光显影是一种用于光刻制程的技术，主要用于制造半导体芯片、液晶显示器等微电子器件。它包含两个阶段：曝光：在将光线通过掩膜中的芯片图案照射到光刻胶表面的过程中，使得光刻胶在芯片表面保留下芯片图案的影像。显影：通过将芯片表面的光刻胶所形成的图案暴露在显影液中进行刻蚀，去除光刻胶的非芯片图案区域，使得芯片上仅保留出所需要的器件结构。