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真空法
这种方法是在高真空状态下令材料气化或离子化沉积于工件表面而形成镀层的过程。其主要方法是。
（一）物理气相沉积（PVD）
在真空条件下，将金属气化成原子或分子，或者使其离子化成离子，直接沉积到工件表面，形成涂层的过程，称为物理气相沉积，其沉积粒子束来源于非化学因素，如蒸发镀溅射镀、离子镀等。
（二）离子注入
高电压下将不同离子注入工件表面令其表面改性的过程，称为离子注入，如注硼等。
（三）化学气相沉积（CVD）
低压（有时也在常压）下，气态物质在工件表面因化学反应而生成固态沉积层的过程，称为化学气相镀，如气相沉积氧化硅、氮化硅等。
PVD（技术是制备薄膜材料的主要技术之一，在真空条件下采用物理方法，将某种材料气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基板材料表面沉积具有增透、反射、保护导电、导磁、绝缘、耐腐蚀、防辐射、装饰等特殊功能的薄膜材料的技术。用于制备薄膜材料的物质被称为 PVD镀膜材料。溅射镀膜和真空蒸发镀膜是主流的两种 PVD 镀膜方式。
以不锈钢钛金举例，大致了解一下PVD技术。不锈钢工件清洗干净后进入真空罐，抽真空到10^-3Pa这个级别，再通入氮气到0.1-1.0Pa，钛金属放电通过等离子化的氮气，沉积到（负偏压）的工件上。沉积物是金色的氮化钛（TiN）。
这种装饰性镀膜，厚度一般都是低于1微米，别想着性能有多少好。当然了，如果有几个微米厚度，那硬度就OK了，可以胜任切削刀具的镀膜。
真空镀膜材料工艺流程
原料粉末——配料——混料——原料预处理——成型——预烧——真空烧结——分拣——真空包装
目前国内的真空镀膜设备制造商在不断的增加，有几百家，国外也很多，那么在如此众多的品牌中如何选择一个适合自己的供应商?怎么选择合适自己的真空镀膜设备厂家呢?这就要靠大家去识别了，现小编与你一起来识别真正合适你的真空镀膜设备供应商。
要根据自己的产品定位来确定真空镀膜设备制造商的等级，如果你的产品定位在市场，那么你必须选择设备，反之，可选中端或中低端的极可，当然，如果资金充足，购买一台性能更加丰富，质量稳定的设备。
真空溅射镀膜
1、真空溅射镀膜的定义
给靶材施加高电压（形成等离子状态），使正荷电气体离子撞击靶材、金属原子飞弹，而在样品表面形成金属皮膜的方法。
2、磁控溅射镀膜的定义
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与ya原子发生碰撞，电离出大量的ya离子和电子，电子飞向基片，ya离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。
3、辉光放电的定义
辉光放电是指在稀薄气体中，两个电极之间加上电压时产生的一种气体放电现象。
