5分钟前 临安音箱曝光显影加工供应来电咨询「利成感光」[利成感光38dbdb8]内容:显影:使用显影液将未曝光的光刻胶清除掉,将芯片图案暴露出来。刻蚀:使用化学反应或物理方法将芯片表面的材料刻蚀掉,形成所需的电子器件结构。清洗:将芯片在化学清洗液中清洗干净,并使用干燥器进行干燥。显影液去除并且清洗(rinse):达到显影时间后,使用DIW立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止,而且会把显影后缺陷颗粒冲洗掉。
3D玻璃显影曝光技术在HW mateRs用到了此技术,该后盖3D玻璃8曲面,弧面曲率大,
设计八曲面玻璃主要是为了满足如下两点需求:
1:为压缩整机厚度,后盖弧度大可增加架构空间,另未来5G的发展,器件增加,空间需加大;
显影液去除并且清洗(rinse):达到显影时间后,使用DIW立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止,而且会把显影后缺陷颗粒冲洗掉。在冲洗过程中,晶圆旋转产生的离心力也对去除表面颗粒有很大的帮助。